1. Osmium Coater의 장점
SEM (주사형 전자현미경) 시료의 전도처리(금속 코팅)는 Gold Sputter Coater나 Carbon Coater
(또는 Vacuum Evaporator) 가 일반적으로 사용되고 있다. 그러나, 최근 FEG-SEM과
같이 고분해능
전자현미경을 사용해서 다양한 시료의 초미세구조를 관찰하려면 이러한 장치로는 대응이 쉽지 않다.
특히, 전자현미경실에서 가장 많이 사용되고 있는 Gold
Sputter Coater 의 문제점을 보면
첫째, 고배율의 관찰을 하면 증착입자가 눈에 띄게 나타나며, 열에 약한 시료는 열에 의한 손상을 일으켜,
변형되거나 변질을 일으키기 쉽다.
둘째, Gold Sputter Coater는 요철이 있는 복잡한 Sample에서 세세한 곳까지 모두 코팅하고, Charge up
을 방지하기 위해서는 막을 두껍게 코팅할 수 밖에 없다.
따라서 복잡한 형상의 시료는 미세구조가 증착 입자에 의해서 파묻혀서 미세구조 관찰이 곤란하게 된다.
2.
Plasma CVD(chemical vapor deposition) Osmium Coater의 원리
Plasma CVD로 오스뮴코팅을 하면 양극과 음극이
설치된 진공챔버(vacuum chamber)
내에
소량의 오스뮴승화 가스를 도입시키며, 전극 사이에 전압을 걸어서 방전을 시키면 도입된 gas는
plasma 상태로 되어 청자색(靑紫色)으로
빛이 난다.
이때 특히 음극 부근의 Negative Glow Phase로 불리우는 영역에서는 Positive Column으로 불리우는
Plasma 상태의 영역보다 음이온화된 오스뮴 원자가 격렬하게 충돌하면서 농축된다.
이곳 즉, Negative Glow Phase 안에 시료를 놓으면, 시료 표면에 양이온화된 오스뮴만 원자 레벨에서
부착, 축적되는 방법이다.
여기에 형성된 오스뮴막의 특성은 비결정(非結晶)의
무결정(amorphous) 상태로써 고배율 관찰에서도
입자의 입상성(粒狀性)이 없다. 오스뮴은 백금(pt)이나Paladium(pd) 등과 동족 원소이므로 전도성도
우수하고 전자현미경 관찰시의 2차 전자의 방출효율도 양호하여, 지극히 선명한 SEM 관찰이 가능하다
vacuum device osmium coater 
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